一个创新的杂质使用LC和LC-MS / MS在-硅片毒性预测Avanafil的仿形

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摘要

药物的降解可导致有毒物质的生成,因此药物质量稳定,是由制药调节器的主要问题。一个塞莱茨…

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一个创新的杂质使用LC和LC-MS / MS在-硅片毒性预测Avanafil的仿形

摘要

的药物会导致有毒物质,因此药物的质量和稳定性的形成的降解是由制药的主要关注监管机构。所选择的5型磷酸二酯酶抑制剂药物Avanafil(AV)结构具有酰胺,arylchloro和氢氧化物作为可水解期间容易地消除官能团。此后,AV的彻底的化学稳定性根据ICH指南Q1A(R2)中的溶液中进行。在水解(酸,碱,中性),热,光解,氧化条件和形式的药物和市售片剂制剂经受降解,其鉴定通过LC共新16个降解产物(DPS),其特征在于,通过LC-MS / MS和可能对于每个胁迫条件降解机理是亲构成。所有的十六个D.P.s被优化的LC条件确定;使用10mM乙酸铵C18柱:ACN(60:40,V / V),pH为4.5作为流动相在0.9毫升min-1的流率,239纳米波长在20℃柱温并且该方法是LC-MS兼容,其特征在于,通过LC-MS / MS证实由相对保留时间(RRT)。 D.P.s的结构从提出了通过LC-MS / MS和每个应力条件还可能降解机理获得的碎片图案确认。药物及其市售片剂制剂显示其使用RRT,光电二极管阵列(PDA)和LC-MS确认相似降解峰。药物降解发生由于亲核取代反应,酰胺水解,酰胺,脱氯以及Bon的吸电子性质由于能量d裂解。在AV结构中的酰胺基团可以进行水解,同时由于芳基氯和氢氧化基团在结构上它进行光分解。综合应力研究表明,AV更易于在光,温度和湿度的劣化;因此AV需要适当的储存条件下温度低于25℃下用保护光和湿气。在计算机芯片上的物理化学性质的毒性预测揭示的所有杂质的物理化学参数为这表明没有杂质是在毒性的任何风险的可接受的限度内。详细地,LC-MS / MS兼容AV降解研究充分验证按照ICH Q2(R1)准则

图形抽象

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缩写

指示在harmonizationLCLiquid chromatographyMSMass spectroscopyPDEPhosphodiesteraseRtRetention timeRRTRelative保留timeSIAMStability ACNAcetonitrileAPIActive药物ingredientAVAvanafilD.P.Degradation productEDErectile dysfunctionICHInternational会议分析方法

关键词

AvanafilLC-MS / MSImpurity profileFragmentationStability表示方法

根据沙特国王大学的责任同行评议

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